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真空蒸发镀膜设备基本参数

来源:www.bragalia.com发表时间:2017-02-10

真空蒸发镀膜设备基本参数

结构形式

设备主要由镀膜室、蒸发系统、真空系统、机架、保护装置及电气控制装置组成。

基本参数

设备的基本参数应符合表1的规定

项次参数名称参数数值
1镀膜室尺寸分档,mm320*,500*,600,630*,700,800*,900,1000*,1200,1200,1350,1600*,1800,2000*,2200,2500
2真空指标分档AB
极限压力,Pa≤5*10-4≤5*10-3
恢复真空抽气时间,min(从大气压抽至7*10-3Pa)≤15(从大气压抽至7*10-2Pa)≤8
升压率,Pa/h≤8*10-1≤2
3工件烘烤装置烘烤温度调节范围室温至200度,室温至300度,室温至350度,室温至400度
4有效加热区加热均匀度≤5%

  

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