无论监视器的精度如何，它只能控制真空室中单个点的膜厚，一般来说，即工件夹持器的中间位置。如果真空电镀设备的该位置处的膜厚度不是绝对均匀的，则远离中心的基板不能获得均匀的厚度。虽然屏蔽可以消除长期的不均匀性，但某些膜厚度变化是由于蒸发源的不稳定性或膜材料的不同性能造成的，因此几乎不可能消除它们。然而，适当选择真空室和蒸发源的结构可以最小化这些影响。
在过去几年中，越来越多的用户要求涂层系统制造商提供高性能、小规模和简单的光学涂层系统。同时，用户对性能的要求并没有降低，而是得到了改善，特别是在薄膜密度和最大限度地减少吸水后的光谱变化方面。
现在，该系统的平均尺寸已经减小，用小型设备生产光学涂层也成为一个纯粹的技术问题。因此，选择现代光学涂层系统的关键在于仔细考虑以下因素：涂层产品的预期性能、基材的尺寸和物理特性，以及确保高度一致的工艺所需的所有技术因素。